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공정용 케미칼

PR 현상액

적용분야

Photo lithography process에서 Photo Resist 와 Dry Film Resist의 현상에 사용되는 제품

종류

HD-10

작업방식

Dipping, Spray ( 수 min, 상온 ~ 40°C )

제품의 특징

① 침투성이 뛰어나며 수세 마무리가 용이함.
② 저 기포성이며, 소포 속도가 우수함.
③ Al에 대한 부식등 손상이 적음.

제품의 주요 물성

품명 주성분 비중 pH
HD-10 KOH 1.000 ± 0.008 11.40 ± 0.50
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