하나나노텍
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HOME > 제품소개 > 공정용 케미칼Photo lithography process에서 Photo Resist 와 Dry Film Resist의 현상에 사용되는 제품
HD-10
Dipping, Spray ( 수 min, 상온 ~ 40°C )
① 침투성이 뛰어나며 수세 마무리가 용이함.
② 저 기포성이며, 소포 속도가 우수함.
③ Al에 대한 부식등 손상이 적음.
| 품명 | 주성분 | 비중 | pH |
|---|---|---|---|
| HD-10 | KOH | 1.000 ± 0.008 | 11.40 ± 0.50 |
